Epdm сильфон

Дизайн гофри

U --подібні гофри: U--подібні гофри пропонують хорошу гнучкість і відносно велику здатність до розширення та стиснення. Вони підходять для застосувань, де очікується значне осьове переміщення.
V --подібне гофрування: V--подібне гофрування забезпечує вищу жорсткість і стійкість до високого{2}}середовища тиску. Вони часто використовуються там, де сильфони з EPDM повинні витримувати великий внутрішній або зовнішній тиск.

Крок і висота хвилі: Крок (відстань між сусідніми гофрами) і висота хвилі (висота кожного гофра) призначені для оптимізації механічних характеристик сильфона. Менший крок і більша висота хвилі можуть збільшити гнучкість, але можуть зменшити-несучу здатність, тоді як більший крок і менша висота хвилі можуть покращити опір тиску, але зменшити гнучкість. Дизайн повинен бути збалансованим відповідно до конкретних вимог застосування.